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2025-08-18 11:45
irm1347477：公司產(chǎn)品能進行euv光刻膠的清洗嗎？
國林科技：尊敬的投資者，您好。光刻膠當(dāng)下主要是SPM工藝，該工藝可以滿足當(dāng)下制程的要求，但是因為環(huán)保與經(jīng)濟型的考慮，一直以來國內(nèi)外在開始研究用臭氧清洗替代，但目前處于工藝交替的初期，并沒有完全成熟切換，根據(jù)工藝試驗，臭氧水用于不同光刻膠的處理需要不同的濃度，一般需要滿足85ppm以上的臭氧水濃度，目前國林半導(dǎo)體臭氧水發(fā)生器的濃度可以實現(xiàn)100ppm以上，最高到150ppm，因此可以滿足使用。隨著時間的推移以及工藝升級的需求，未來會是一種必然的趨勢。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-18 11:45
irm1347477：在光刻技術(shù)方面，高純二氧化碳有2大用途。一是用于沉浸式光刻技術(shù)，保證液體不從側(cè)面泄露出去，進一步提高光刻分辨率。二是因其高純度和化學(xué)惰性，成為光刻機冷卻系統(tǒng)的理想選擇。其純度通常達(dá)到99.999%以上，能夠有效降低光源溫度，同時避免雜質(zhì)對光源和光學(xué)系統(tǒng)的污染。請問公司的半導(dǎo)體級高純二氧化碳設(shè)備在技術(shù)上是否能滿足沉浸式光刻技術(shù)以及降低光刻機光源溫度的需要？
國林科技：尊敬的投資者，您好。光刻膠屬于有機物的一種，臭氧主要作用之一就是去除有機物，公司半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于光刻膠去除工藝。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-18 11:45
irm1347477：目前為止，DUV光刻膠分為KrF248nm和ArF193nm兩種，而EUV光刻膠是CAR光刻膠。公司有針對duv和euv光刻膠特性不同，而開發(fā)生產(chǎn)對應(yīng)的半導(dǎo)體臭氧涂膠顯影和光刻膠清洗設(shè)備嗎？
國林科技：尊敬的投資者，您好。光刻膠屬于有機物的一種，臭氧主要作用之一就是去除有機物，因此公司半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于光刻膠去除工藝。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-18 08:55
irm1347477：公司的半導(dǎo)體臭氧設(shè)備400g/L，這是濃度指標(biāo)。而臭氧氣體純度指標(biāo)，指的是臭氧氣體的純凈度，即臭氧以外的雜質(zhì)含量多少，在業(yè)內(nèi)通用都是用％來表示，多少個9數(shù)字就代表多少N。同類型的公司比如天津奧爾斯曼，比如美國mks，在其半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器的產(chǎn)品參數(shù)中，都有標(biāo)注其產(chǎn)生的臭氧氣體純度達(dá)99.9995％，為6N水準(zhǔn)。通常公認(rèn)半導(dǎo)體級氣體的純度必須要達(dá)到至少5N，所以請問公司的臭氧設(shè)備產(chǎn)生的臭氧氣體純度多少
國林科技：尊敬的投資者，您好。關(guān)于產(chǎn)品詳情及公司研發(fā)情況請您關(guān)注公司官方網(wǎng)站及指定信息披露媒體。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 16:10
irm1347477：恭喜公司順利復(fù)產(chǎn)，請問公司停產(chǎn)期間，是否將晶體乙醛酸庫存處理完畢？做到輕裝上陣？
國林科技：尊敬的投資者，您好。具體經(jīng)營情況請您關(guān)注公司定期報告。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 16:04
irm1347477：公司在2024年報中提到公司的半導(dǎo)體設(shè)備已經(jīng)在國內(nèi)晶圓芯片終端（fab）廠正式投入使用，請問是否屬實？是國內(nèi)頭部的fab廠嗎？
國林科技：尊敬的投資者，您好。公司相關(guān)情況請您以公司于指定信息披露媒體刊登的公告為準(zhǔn)。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 15:55
irm1347477：相比傳統(tǒng)等離子蝕刻，臭氧蝕刻對基材損傷更小，適用于高精度圖形化工藝。減少熱應(yīng)力，避免第三代半導(dǎo)體材料（如碳化硅）因高溫導(dǎo)致的晶格缺陷。公司到底有沒有蝕刻工藝的臭氧設(shè)備？能否用于第三代半導(dǎo)體制造？
國林科技：尊敬的投資者，您好。公司現(xiàn)有半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于蝕刻工藝、第三代半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 15:55
irm1347477：美國mks官網(wǎng)上顯示其最先進的半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧純度為99.9995％，即6N水準(zhǔn)。該產(chǎn)品已用于臺積電3nm芯片生產(chǎn)線。請問公司的同類型半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器的臭氧純度為多少？是多少N的水準(zhǔn)？能否達(dá)到同樣3nm芯片生產(chǎn)的要求？
國林科技：尊敬的投資者，您好。純度指的是濃度，用mg/L單位來表示，99.9995%屬于描述不符。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 15:55
irm1347477：pcn印刷電路板，在焊接、組裝等工藝后，表面可能會殘留助焊劑、油污等。臭氧可以快速有效清洗這些污物。請問公司的臭氧設(shè)備能否滿足pcb印刷電路板的清洗？
國林科技：尊敬的投資者，您好。國林半導(dǎo)體現(xiàn)有產(chǎn)品具備廣泛的應(yīng)用適應(yīng)性，能夠滿足各類場合中臭氧清洗的需求。感謝您的關(guān)注。
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2025-08-15 15:55
irm1347477：某國內(nèi)半導(dǎo)體臭氧設(shè)備廠商宣稱其設(shè)備產(chǎn)生的超純臭氧氣體純度達(dá)99.9995%，即5N水準(zhǔn)。請問公司的臭氧設(shè)備能產(chǎn)生的半導(dǎo)體級超純臭氧氣體純度為多少？二氧化碳設(shè)備產(chǎn)生的半導(dǎo)體級二氧化碳?xì)怏w純度為多少？
國林科技：尊敬的投資者，您好。純度指的是濃度，用mg/L單位來表示。99.9995%屬于描述不符。感謝您的關(guān)注。
